Institut Ruđer Bošković Laboratorij za tanke filmove Sputtering deposition system CMS 18

Magnetroni: diodni izvori rasprašenja u kojima magnetsko polje i katodnu plohu koristimo da bi stvorili elektronske stupice koje su takve konfiguracije da se E x B elektronska driftna struja zavara u samu sebe. U uporabi su najčešće magnetroni planarne i cilindrične geometrije. Magnetronsko rasprašenje kao metoda u stalnom je usponu u zemljama “visoke tehnologije”. Depozicija magnetronskim rasprašenjem obečavajuća je metoda u pripremi materijala “nove” visoke tehnologije, poput višeslojnih struktura, nanostruktura ili tankih filmova konvencionalno nemješivih komponenti.

Uređaj CMS 18 sastavni djelovi:

1. Nosač magnetronskih izvora.
2. Depozicijska komora.
3. Modul brze izmjene uzoraka.
4. Nosač podloga za deponiranje.
5. Sistem kontrole procesa
6. Sistem kontrole tlaka
7. Sistem kontrole izvora i metode rada.
8. Izvor napajanja

Shematski prikaz komore za depoziciju

• Nosač podloge Rotirajuća noseča ploča s mogućnošću podešavanja brzine do 40 okr./min.
• Izvor depozicije Ukupno četri TORUS magnetrona od kojih dva imaju mogućnost montaže magneta (podesivosti magnetskih polja).
• Napajanje
  1. RF izvor -- 600 W
  2. DC izvor -- 500 W
  3. DC izvor -- 1 kW
  4. SPARC-LE 20 jedinica za suzbijanje luka.

Mogućnosti magnetronskog klastera (grozd magnetrona)

• KODEPOZICIJA
• Legiranje
• Kemijska sinteza
• SEKVENCIONALNA DEPOZICIJA
• Višeslojne strukture

Torus magnetron

Grozd torus magnetrona